Принтер лазерный

Режим работы:
по будням с 9.00 до 18.00
г. Москва, Сокольники
ДОСТАВКА ПО ВСЕЙ РОССИИ
ДОСТАВКА ПО ВСЕЙ РОССИИ
Новинка от Nikon
22.10.2007
Освоение все более тонких норм технологического процесса идет своим чередом. Пока отрасль определяется, какую технологию выбрать для перехода к отметкам 32 и 22 нм, оборудование для выпуска чипов по нормам 45 нм с использованием иммерсионной литографии поступает в распоряжение производителей. Корпорация Nikon сообщила об отгрузке первой в мире системы такого рода, предназначенной для серийного производства и способной работать по нормам 45-нм техпроцесса.
Речь идет об иммерсионном сканере NSR-S610C, в котором в качестве источника светового излучения длиной волны 193 нм используется эксимерный ArF-лазер. Как сообщается, численное значение апертуры проекционной оптической системы (NA) сканера составляет 1,30 – максимальное значение по отрасли в целом. Напомним, первые сведения о NSR-S610C появились около года назад, в ходе конференции SPIE Microlithography.
Сканер, официально представленный в июле прошлого года, предназначен для серийного производства по нормам 45 нм и может быть использован в разработках, связанных с переходом к 32-нм нормам и двойному экспонированию.
В NSR-S610C воплощены такие разработки Nikon, как технология «локального заполнения» (Local Fill Technology), предотвращающаяся появление дефектов, вызванных неоднородностями в жидкости и пластинах, и Tandem Stage – «двухпроходная» технология, позволяющая повысить производительность, точность и долгосрочную стабильность результатов.
Название компании, выступившей в роли заказчика, не разглашается. Известно, однако, что речь идет об одном из крупнейших производителей микросхем.
Источник www.ixbt.com